YAS는 세계 최초 대면적 OLED 양산설비 제작 업체로, 독보적인 성능의 OLED System을 보유하고 있습니다.

YAS Evaporation Source(LNS & PNS & CNS)

LNS & PNS & CNS

구분	방식	기판사이즈								용도	용량(cc)
구분	방식	2	3	4	5	6	7	8	10.5	용도	용량(cc)
PNS	Rotational									연구용/양산용	10, 40, 150, 400, 800
PNS	Scanning									연구용/양산용	10, 40, 150, 400, 800
CNS/SCNS	Static									연구용/양산용	40, 150, 400
CNS/SCNS	Rotational									연구용/양산용	40, 150, 400
CLNS	Scanning									연구용/양산용	1,000
LNS	Scanning									연구용/양산용	1,000 3,000 100,000

터치 및 드래그로 내용 확인이 가능합니다.

LNS

LNS / C-LNS

높은 물질 사용 효율
특수한 구조의 선형 노즐을 적용하여 최상의 박막 균일도로 성막 가능함.
도핑 균질도를 향상시킬 수 있고, 마스크 쉐도우 현상이 적음.
높은 TS로 Substrate 열전달에 유리하면서 동일한 높은 물질 사용효율 보유
증발원의 열 분포를 적절하게 유지하여 분출 Clogging 방지
기판 혹은 증발원을 이동하면서 성막하는 장비에 적용 가능
유기물 및 무기물 증발원 제공

PNS

LT Source	저용량, 작은 기판용 Source로 양산용보다는 Lab에 주로 이용된다.
HT Source	Inorganic / Metal material에 주로 사용된다.
Al Source	알루미늄에 특화된 소스로, 양산에 사용시 YAS만의 Feeding System과 결합되어 사용된다.

물질 사용 효율은 좋지 않으나, 안정적인 Uniformity 확보가 가능하다.

CNS

LNS / C-LNS

기판의 회전 없이도 균일한 두께의 유기 박막을 제작
기존의 Point Source를 이용한 회전 증발원에 비해 물질의 사용 효율이 3~4배 향상
박막 균일도 2% 미만
도핑 균질도를 향상 시킬 수 있고, 마스크 쉐도우 현상을 개선 회전 증착 시 물질 사용률 극대화
4세대 (730 × 920mm)까지 적용 가능
유기물 및 무기물 증발원 제공
YAS만의 Nozzle Handling Tech.를 이용하여, Flux 컨트롤을 통한 U/F & Utilization 가능.